半導體用臭氧水去除有機物質臭氧濃度需要達到多少

半導體用臭氧水去除有機物質臭氧濃度需要達到多少

使用臭氧水可去除的物質以及所需臭氧的濃度

利用臭氧的強氧化能力,可以實現分解并去除大量的雜質。

根據雜質的形狀與數量的不同,所需濃度也將有所變化,請參考下圖數據。

此外,如將稀氫氟酸與臭氧水同時使用,去除雜質的效果將倍增。


標簽:半導體 臭氧水 有機物質 臭氧濃度


臭氧文章

相關產品

半導體板式臭氧發生器

移動臭氧消毒機

壁掛式臭氧消毒機

澳门毛片精品一区二区三区